Imprint resist and substrate pretreatment for reducing fill time in nanoimprint lithography

WO2017172791 Art A1 5. Oktober 2017

Anmelder: Canon Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017172791
Aktenzeichen: EP17776471
Anmeldetag: 28. März 2017
Veröffentlichung: 5. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00B29C59/02B82Y10/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Canon Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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