Photosensitive refractive index modulation film, method for forming cured film pattern, cured film and electronic component

WO2017175642 Art A1 12. Oktober 2017

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017175642
Aktenzeichen: EP17779021
Anmeldetag: 29. März 2017
Veröffentlichung: 12. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004B32B7/02B32B27/30G03F7/027G03F7/031G03F7/033G03F7/11G06F3/041

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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