Basno3 thin film and low-temperature preparation method therefor
WO2017176038
Art A1
12. Oktober 2017
Anmelder: Korea Research Institute of Chemical Technology, UNIST (Ulsan National Institute of Science and Technology) 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017176038
- Aktenzeichen
- EP17779338
- Anmeldetag
- 4. April 2017
- Veröffentlichung
- 12. Oktober 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L31/0216H01L31/0392H01L31/18H01L21/02H01L21/324C01G19/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Korea Research Institute of Chemical Technology
UNIST (Ulsan National Institute of Science and Technology) - Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Korea Research Institute of Chemical Technology
Südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Daejeon, tätig in der Entwicklung von Chemikalien, Materialien und Verfahrenstechnik.
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