Two-stage bake photoresist with releasable quencher
WO2017176282
Art A1
12. Oktober 2017
Anmelder: INTEL Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017176282
- Aktenzeichen
- EP16898120
- Anmeldetag
- 8. April 2016
- Veröffentlichung
- 12. Oktober 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027G03F1/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- INTEL Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Intel
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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