Mapping of patterns between design layout and patterning device

WO2017178276 Art A1 19. Oktober 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017178276
Aktenzeichen: EP17715466
Anmeldetag: 4. April 2017
Veröffentlichung: 19. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/36G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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