Makeup simulation system, makeup simulation method, and makeup simulation program

WO2017179134 Art A1 19. Oktober 2017

Anmelder: Optim Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017179134
Aktenzeichen: EP16898594
Anmeldetag: 12. April 2016
Veröffentlichung: 19. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G06T1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Optim Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Optim

Optim ist ein japanisches IT-Unternehmen mit Sitz in Saga, das Fernwartungs- und IoT-Software anbietet. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Nachrichtentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Medizin- und Landwirtschaftstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum 2001 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Software & Datenverarbeitung

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