Vapor deposition mask base material, vapor deposition mask base material manufacturing method, and vapor deposition mask manufacturing method

WO2017179719 Art A1 19. Oktober 2017

Anmelder: Toppan Printing Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2017179719
Aktenzeichen
EP17782532
Anmeldetag
14. April 2017
Veröffentlichung
19. Oktober 2017
Rechtsraum
WO
IPC
C23C14/04C23C14/24H01L51/50H05B33/10
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Toppan Printing Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

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