Radiation sensitive resin composition, resist pattern forming method and radiation sensitive acid generator

WO2017179727 Art A1 19. Oktober 2017

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017179727
Aktenzeichen: EP17782540
Anmeldetag: 14. April 2017
Veröffentlichung: 19. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C61/29C07C62/06C07C309/25C07C309/27C07C381/12C09K3/00G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

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