Plasma abatement solids avoidance by use of oxygen plasma cleaning cycle

WO2017180322 Art A1 19. Oktober 2017

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017180322
Aktenzeichen: EP17782831
Anmeldetag: 28. März 2017
Veröffentlichung: 19. Oktober 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/205C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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