Method for patterning a substrate using a layer with multiple materials

WO2017181057 Art A1 19. Oktober 2017

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2017181057
Aktenzeichen
EP17783269
Anmeldetag
14. April 2017
Veröffentlichung
19. Oktober 2017
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/768H01L21/027
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Tokyo Electron Limited
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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