Substrate processing device, manufacturing method of semiconductor device and program

WO2017183401 Art A1 26. Oktober 2017

Anmelder: Kokusai Electric Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2017183401
Aktenzeichen
EP17785743
Anmeldetag
28. März 2017
Veröffentlichung
26. Oktober 2017
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/31C23C16/44C23C16/507H01L21/316H05H1/46
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Kokusai Electric Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Kokusai Electric

Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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