Combined anneal and selective deposition process
WO2017184358
Art A1
26. Oktober 2017
Anmelder: IMEC vzw 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017184358
- Aktenzeichen
- EP17786341
- Anmeldetag
- 7. April 2017
- Veröffentlichung
- 26. Oktober 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B05D3/02B05D3/04C23C8/00C23C8/06C23C16/40C23C16/44C23C16/448C23C16/52
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- IMEC vzw
- Land
- 🇧🇪 Belgien
🇧🇪
imec
Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.
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