Base material processing method and method for manufacturing semiconductor device

WO2017187769 Art A1 2. November 2017

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017187769
Aktenzeichen: EP17789058
Anmeldetag: 28. Februar 2017
Veröffentlichung: 2. November 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02B23K26/03B23K26/18B23K26/57

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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