Oxide sintered body, sputtering target and oxide semiconductor film

WO2017188299 Art A1 2. November 2017

Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017188299
Aktenzeichen: EP17789581
Anmeldetag: 26. April 2017
Veröffentlichung: 2. November 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C04B35/01C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Idemitsu Kosan Co., Ltd
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Idemitsu Kosan

Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

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