Composition for forming resist underlayer film, lithography underlayer film using same, pattern forming method, compound, and method for producing same

WO2017188450 Art A1 2. November 2017

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017188450
Aktenzeichen: EP17789731
Anmeldetag: 28. April 2017
Veröffentlichung: 2. November 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G79/00G03F7/20G03F7/26C08G77/58

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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