Reducing The Effect Of Plasma On an Object in an Extreme Ultraviolet Light Source

WO2017189193 Art A1 2. November 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017189193
Aktenzeichen: EP17790090
Anmeldetag: 4. April 2017
Veröffentlichung: 2. November 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03B27/54G21G4/00G21K5/04H01H1/00H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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