Dual loop susceptor temperature control system
WO2017192291
Art A1
9. November 2017
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017192291
- Aktenzeichen
- EP17793011
- Anmeldetag
- 24. April 2017
- Veröffentlichung
- 9. November 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C16/458C23C16/46C23C16/52
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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