Porosity measurement of semiconductor structures
WO2017192408
Art A1
9. November 2017
Anmelder: Kla-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017192408
- Aktenzeichen
- EP17793053
- Anmeldetag
- 29. April 2017
- Veröffentlichung
- 9. November 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/95G01N15/08G01N21/956
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kla-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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