Position measurement system, calibration method, lithographic apparatus and device manufacturing method

WO2017194277 Art A1 16. November 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017194277
Aktenzeichen: EP17717454
Anmeldetag: 19. April 2017
Veröffentlichung: 16. November 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01B9/02G02B26/06G02B27/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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