Lageranordnung für eine Lithographieanlage sowie Lithographieanlage

WO2017194348 Art A1 16. November 2017

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017194348
Aktenzeichen: EP17721360
Anmeldetag: 2. Mai 2017
Veröffentlichung: 16. November 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20F16C32/04G02B7/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik

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