Substrate support device, exposure device, and patterning device

WO2017199658 Art A1 23. November 2017

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2017199658
Aktenzeichen
EP17799090
Anmeldetag
17. April 2017
Veröffentlichung
23. November 2017
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/24G03F7/20H01L21/68
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Nikon Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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