Composition for forming metal-containing film, method of producing composition for forming metal-containing film, semiconductor device, and method of manufacturing semiconductor device
WO2017200107
Art A1
23. November 2017
Anmelder: Mitsui Chemicals, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017200107
- Aktenzeichen
- EP17799531
- Anmeldetag
- 19. Mai 2017
- Veröffentlichung
- 23. November 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09D201/00C09D5/25C09D7/12G03F7/11G03F7/26H01L21/027H01L21/3065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsui Chemicals, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsui Chemicals
Mitsui Chemicals ist ein japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, der Basis- und Spezialchemikalien, Kunststoffe sowie Materialien für Elektronik und Mobilität herstellt. Das Unternehmen ging 1997 aus der Fusion mehrerer Mitsui-Chemieunternehmen hervor.
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