Composition for forming metal-containing film, method of producing composition for forming metal-containing film, semiconductor device, and method of manufacturing semiconductor device

WO2017200107 Art A1 23. November 2017

Anmelder: Mitsui Chemicals, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2017200107
Aktenzeichen
EP17799531
Anmeldetag
19. Mai 2017
Veröffentlichung
23. November 2017
Rechtsraum
WO
IPC
C09D201/00C09D5/25C09D7/12G03F7/11G03F7/26H01L21/027H01L21/3065
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Mitsui Chemicals, Inc.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Mitsui Chemicals

Mitsui Chemicals ist ein japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, der Basis- und Spezialchemikalien, Kunststoffe sowie Materialien für Elektronik und Mobilität herstellt. Das Unternehmen ging 1997 aus der Fusion mehrerer Mitsui-Chemieunternehmen hervor.

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