Temperature measurement wafer sensor and method for manufacturing same
WO2017200267
Art A1
23. November 2017
Anmelder: Korea Research Institute of Standards and Science 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017200267
- Aktenzeichen
- EP17799624
- Anmeldetag
- 16. Mai 2017
- Veröffentlichung
- 23. November 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/66H01L21/67H01L35/32H01L21/28H01L21/768G01N21/95
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Korea Research Institute of Standards and Science
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Korea Research Institute of Standards and Science
Der Anmelder ist ein südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut für Metrologie mit Sitz in Daejeon, bekannt als KRISS. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik, ergänzt durch Halbleiterbauelemente, Software und Medizintechnik. Anmeldungen laufen seit 2002 durchgehend fort.
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