Temperature measurement wafer sensor and method for manufacturing same

WO2017200267 Art A1 23. November 2017

Anmelder: Korea Research Institute of Standards and Science 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2017200267
Aktenzeichen
EP17799624
Anmeldetag
16. Mai 2017
Veröffentlichung
23. November 2017
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/66H01L21/67H01L35/32H01L21/28H01L21/768G01N21/95
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Korea Research Institute of Standards and Science
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Korea Research Institute of Standards and Science

Der Anmelder ist ein südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut für Metrologie mit Sitz in Daejeon, bekannt als KRISS. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik, ergänzt durch Halbleiterbauelemente, Software und Medizintechnik. Anmeldungen laufen seit 2002 durchgehend fort.

452 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen