Slurry composition for chemical-mechanical polishing

WO2017200297 Art A1 23. November 2017

Anmelder: Dongjin Semichem Co., Ltd 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2017200297
Aktenzeichen
EP17799654
Anmeldetag
17. Mai 2017
Veröffentlichung
23. November 2017
Rechtsraum
WO
IPC
C09G1/02C09K3/14H01L21/321H01L21/304B01J23/74
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Dongjin Semichem Co., Ltd
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Dongjin Semichem

Der Anmelder ist ein südkoreanischer Hersteller von Chemikalien für die Halbleiter- und Displayindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Klebstoffe, Optik und Kunststofftechnik, insbesondere Fotoresists und Materialien für Dünnschichtprozesse. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

456 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen