Non-Shadow Frame Plasma Processing Chamber

WO2017200733 Art A1 23. November 2017

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017200733
Aktenzeichen: EP17799851
Anmeldetag: 28. April 2017
Veröffentlichung: 23. November 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/458C23C16/505

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von