High-Frequency-Probe Position Correction Technology
WO2017203876
Art A1
30. November 2017
Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017203876
- Aktenzeichen
- EP17802475
- Anmeldetag
- 12. April 2017
- Veröffentlichung
- 30. November 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01R27/28G01R1/073G01R31/28G01R35/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.
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