Radiation-sensitive composition and pattern forming method

WO2017204090 Art A1 30. November 2017

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017204090
Aktenzeichen: EP17802682
Anmeldetag: 18. Mai 2017
Veröffentlichung: 30. November 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C01G19/02C01G23/053C01G25/02C01G27/02C01G35/00C01G41/02G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik

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