Metal mask for vapor deposition, method for producing metal mask for vapor deposition, and substrate for forming metal mask for vapor deposition

WO2017204223 Art A1 30. November 2017

Anmelder: Toppan Printing Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017204223
Aktenzeichen: EP17802809
Anmeldetag: 23. Mai 2017
Veröffentlichung: 30. November 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04H01L51/50H05B33/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Toppan Printing Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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