Atomic layer etching systems and methods

WO2017205614 Art A1 30. November 2017

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017205614
Aktenzeichen: EP17803575
Anmeldetag: 25. Mai 2017
Veröffentlichung: 30. November 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/302C23F1/00C23F1/10C23F1/12H01L21/02H01L21/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von