Method and appliance for predicting the imaging result obtained with a mask when a lithography process is carried out

WO2017207297 Art A1 7. Dezember 2017

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017207297
Aktenzeichen: EP17742650
Anmeldetag: 19. Mai 2017
Veröffentlichung: 7. Dezember 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/84G03F7/20G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von