Dark field wafer nano-defect inspection system with a singular beam

WO2017210281 Art A1 7. Dezember 2017

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017210281
Aktenzeichen: EP17807388
Anmeldetag: 31. Mai 2017
Veröffentlichung: 7. Dezember 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/88G01B11/02G01N21/00G01N21/84

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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