System, method and computer program product for automatically generating a wafer image to design coordinate mapping
WO2017210354
Art A1
7. Dezember 2017
Anmelder: Kla-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017210354
- Aktenzeichen
- EP17807435
- Anmeldetag
- 31. Mai 2017
- Veröffentlichung
- 7. Dezember 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G06F17/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kla-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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