Double-sided polishing device and method having polishing pad with stiffness controlled by dynamic cluster magnetic field

WO2017211082 Art A1 14. Dezember 2017

Anmelder: Guangdong University of Technology 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017211082
Aktenzeichen: EP17809523
Anmeldetag: 6. Januar 2017
Veröffentlichung: 14. Dezember 2017
Rechtsraum: WO
IPC: B24B7/17B24B47/16C09K3/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Guangdong University of Technology
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Guangdong University of Technology

Die Guangdong University of Technology ist eine chinesische Universität mit technischem und naturwissenschaftlichem Forschungsprofil in Guangzhou. Das Patentportfolio verteilt sich auf Werkzeug- und Fertigungstechnik, anorganische Chemie sowie Mess- und Halbleitertechnik, ergänzt durch Heiz- und Softwaretechnik. Anmeldungen laufen von 2011 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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