Method of determining pellicle compensation corrections for a lithographic process, metrology apparatus and computer program

WO2017211544 Art A1 14. Dezember 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017211544
Aktenzeichen: EP17722824
Anmeldetag: 16. Mai 2017
Veröffentlichung: 14. Dezember 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/62

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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