Beschichteter Kohlenstoffkörper in einem Cvd-Reaktor

WO2017211724 Art A1 14. Dezember 2017

Anmelder: Aixtron SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017211724
Aktenzeichen: EP17732325
Anmeldetag: 2. Juni 2017
Veröffentlichung: 14. Dezember 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/458C23C16/30C30B25/12C30B29/40H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Aixtron SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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