Metrology method and apparatus for a semiconductor manufacturing process

WO2017212035 Art A1 14. Dezember 2017

Anmelder: IMEC VZW 🇧🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017212035
Aktenzeichen: EP17728228
Anmeldetag: 9. Juni 2017
Veröffentlichung: 14. Dezember 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: IMEC VZW
Land: 🇧🇪 Belgien

🇧🇪 imec

Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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