Hole inner surface processing device and hole inner surface processing method

WO2017212721 Art A1 14. Dezember 2017

Anmelder: Sintokogio, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2017212721
Aktenzeichen
EP17809905
Anmeldetag
8. März 2017
Veröffentlichung
14. Dezember 2017
Rechtsraum
WO
IPC
B24C5/02B24C1/04B24C3/32
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Sintokogio, Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Sintokogio, Ltd.

Japanischer Hersteller von Gießerei- und Industrieanlagen (Formmaschinen, Oberflächenbehandlungstechnik) mit Sitz in Nagoya. Patente betreffen Gieß- und Fertigungstechnik.

499 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen