Hole inner surface processing device and hole inner surface processing method
WO2017212721
Art A1
14. Dezember 2017
Anmelder: Sintokogio, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017212721
- Aktenzeichen
- EP17809905
- Anmeldetag
- 8. März 2017
- Veröffentlichung
- 14. Dezember 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B24C5/02B24C1/04B24C3/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sintokogio, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sintokogio, Ltd.
Japanischer Hersteller von Gießerei- und Industrieanlagen (Formmaschinen, Oberflächenbehandlungstechnik) mit Sitz in Nagoya. Patente betreffen Gieß- und Fertigungstechnik.
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