Treatment method, method for manufacturing semiconductor device, and substrate treatment apparatus

WO2017212728 Art A1 14. Dezember 2017

Anmelder: Kokusai Electric Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017212728
Aktenzeichen: EP17809912
Anmeldetag: 14. März 2017
Veröffentlichung: 14. Dezember 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/31C23C16/44H01L21/316

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Kokusai Electric Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kokusai Electric

Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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