Deposition device and physical vapour deposition chamber

WO2017215154 Art A1 21. Dezember 2017

Anmelder: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017215154
Aktenzeichen: EP16905266
Anmeldetag: 9. Oktober 2016
Veröffentlichung: 21. Dezember 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Beijing NAURA Microelectronics Equipment

Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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