Methods and apparatus for determining the position of a target structure on a substrate, methods and apparatus for determining the position of a substrate

WO2017215924 Art A1 21. Dezember 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017215924
Aktenzeichen: EP17728150
Anmeldetag: 1. Juni 2017
Veröffentlichung: 21. Dezember 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00H01L21/68

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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