Vorrichtung und Verfahren zum Sequentiellen Abscheiden einer Vielzahl von Schichten auf Substraten, sowie Aufnahmeeinheit zur Verwendung in einer Abscheidungsvorrichtung

WO2017216065 Art A1 21. Dezember 2017

Anmelder: Aixtron SE, centrotherm international AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017216065
Aktenzeichen: EP17731502
Anmeldetag: 9. Juni 2017
Veröffentlichung: 21. Dezember 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455H01L21/677H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Aixtron SE
centrotherm international AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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