Resin composition for resist and resist film
WO2017217312
Art A1
21. Dezember 2017
Anmelder: DIC Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017217312
- Aktenzeichen
- EP17813210
- Anmeldetag
- 8. Juni 2017
- Veröffentlichung
- 21. Dezember 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08G59/62G03F7/11H01L21/3065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- DIC Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
DIC Corporation
DIC Corporation ist ein japanischer Chemiekonzern (früher Dainippon Ink and Chemicals) mit Schwerpunkt auf Druckfarben, Pigmenten und organischen Feinchemikalien.
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