Apparatus for material deposition on a substrate in a vacuum deposition process, system for sputter deposition on a substrate, and method for manufacture of an apparatus for material deposition on a substrate

WO2017217987 Art A1 21. Dezember 2017

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017217987
Aktenzeichen: EP16905647
Anmeldetag: 16. Juni 2016
Veröffentlichung: 21. Dezember 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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