Lanthanide, yttrium and scandium precursors for ald, cvd and thin film doping and methods of use

WO2017218461 Art A1 21. Dezember 2017

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017218461
Aktenzeichen: EP17813896
Anmeldetag: 13. Juni 2017
Veröffentlichung: 21. Dezember 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/18C23C16/40C23C16/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von