Substrate treatment method, readable computer recording medium, and substrate treatment system

WO2017221683 Art A1 28. Dezember 2017

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017221683
Aktenzeichen: EP17815152
Anmeldetag: 5. Juni 2017
Veröffentlichung: 28. Dezember 2017
Rechtsraum: WO
IPC: B05D1/40B05C11/08B05D1/36G03F7/16G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von