Passivation layer forming composition, semiconductor substrate having passivation layer, method for manufacturing semiconductor substrate having passivation layer, solar cell element, method for manufacturing solar cell element, and solar cell

WO2018003141 Art A1 4. Januar 2018

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018003141
Aktenzeichen
EP16907373
Anmeldetag
6. Dezember 2016
Veröffentlichung
4. Januar 2018
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/316H01L31/0216
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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