Composition for passivation layer formation, semiconductor substrate with passivation layer, method for manufacturing semiconductor substrate with passivation layer, solar cell element, method for manufacturing solar cell element, and solar cell

WO2018003142 Art A1 4. Januar 2018

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018003142
Aktenzeichen: EP16907374
Anmeldetag: 7. Dezember 2016
Veröffentlichung: 4. Januar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/316H01L31/0216

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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