Imprint resist and substrate pretreatment for reducing fill time in nanoimprint lithography

WO2018005338 Art A1 4. Januar 2018

Anmelder: Canon Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018005338
Aktenzeichen: EP17821000
Anmeldetag: 26. Juni 2017
Veröffentlichung: 4. Januar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: B41M5/124G03F7/004G03F7/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Canon Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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