Gas piping system, chemical vapor deposition device, film deposition method, and method for producing sic epitaxial wafer
WO2018008334
Art A1
11. Januar 2018
Anmelder: Showa Denko K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018008334
- Aktenzeichen
- EP17823941
- Anmeldetag
- 12. Juni 2017
- Veröffentlichung
- 11. Januar 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/205C23C16/42C23C16/44C23C16/455C30B29/36
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Showa Denko K.K.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Showa Denko
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.
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