Method for forming two-dimensional material
WO2018008438
Art A1
11. Januar 2018
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018008438
- Aktenzeichen
- EP17824045
- Anmeldetag
- 26. Juni 2017
- Veröffentlichung
- 11. Januar 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C01B32/186C23C16/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Vertreten von
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